高分辨率电子背面散射衍射(EBSD)和扫描电子显微镜(SEM)表面/横截面样品制备
在电子背面散射衍射(EBSD)研究中,表面质量是一个关键问题。衍射图形形成在样品表面的几十纳米中。需要结晶,无损和无氧化物表面,以获得良好的质量EBSD图案以可视化晶粒和/或晶体取向的小规模变异。氩气宽梁离子铣削处理Technoorg的SEMPrep2系统为EBSD研究提供了合适的样品表面。在某些情况下,只需10分钟的离子磨铣处理,样品就能产生优良的EBSD结果。
其他的样品制备方法导致了衍射图样的扩散,降低了其质量,并存在以下问题,例如:
- 机械研磨和抛光在表面形成1 nm到100 nm厚度的非晶层,称为Beilby层。
- 金刚石抛光会使表面颗粒变形。
- 胶体硅抛光是一种常用的抛光方法,不仅耗时,而且会导致抛光材料残留在表面颗粒中。
- 电解抛光是一个复杂的过程,其结果多种多样。
EBSD图的离子研磨样品制备
氩离子铣削(Ar+)离子枪克服了上述所有困难,提供了高分辨率EBSD地图所需的表面光洁度。通过使用SEMPrep2系统上的各种模块,可以制备用于表面或截面分析的样品。样品制备涉及到用高能氩对样品进行铣削+离子枪。在去除任何与晶界有关的工件的过程中,样品同时旋转和振荡。随后用低能量Ar进行清洗+离子枪通向一个表面,为EBSD测量做好准备。正如我们在Ar中看到的那样,EBSD地图的质量显著提高+离子时间依赖曲线。
在电子188金宝搏app安卓下载、半导体和生物材料等应用中,样品的横截面对理解生产过程具有重要意义和价值。SEMPrep产生高质量的切割表面,使得在对称的切割表面上进行EBSD研究成为可能。在机械预制备的样品中,通过用筛网标记样品,并从一个角度铣削样品以暴露截面来保持样品的完整性。
SEMPrep2配有载荷锁定机制,用于更快的样品转移,以及几种头类型,包括用于较大样品的平头,用于较厚样品的标准头,以及用于冶金安装样品的空心头。真空持续保持在工作室内,保护离子源不受污染。温度敏感的样品可以用Peltier冷却或氮气冷却阶段制备。
参考文献:Z. Dankhazi等人,EBSD样品制备:高能氩离子铣削